技術創(chuàng)新

生產(chǎn)工藝

氣相二氧化硅，其原料一般為四氯化硅或三氯硅烷、氧氣（或空氣）和氫氣，高溫下反應而成。反應方程式為： SiCl4+ 2H2+ O2—>SiO2+4HClCH3SiCl3+2H2+3O2—>SiO2+3HCl+CO2+2H2O 四氯化硅或三氯硅烷在高溫下氣化（火焰溫度1000~1800℃）后，與一定量的氫和氧（或空氣）在1800℃左右的高溫下進行氣相水解；此時生成的氣相二氧化硅顆粒極細，與氣體形成氣溶膠，不易捕集，故使其先在聚集器中聚集成較大顆粒，然后經(jīng)旋風分離器收集，再送入脫酸爐，用含氮空氣吹洗氣相二氧化硅至PH值為4～6即為成品。

創(chuàng)新與提升

公司自啟動該項?以來，通過?年多時間進行技術改造與升級，已于2017年12?份正式投??產(chǎn)，同時通過?藝優(yōu)化和設備升級，已具備裝置擴產(chǎn)能力，預計實際產(chǎn)能在現(xiàn)有主設施不變的前提下增產(chǎn)20%，達到年產(chǎn)6000噸規(guī)模，實現(xiàn)銷售額2-2.5億元。